CS400ES PVD System für Metalle & Metalloxide
- Cluster-System für Brennstoffzellen
- Eingabe-/Ausgabeschleusenkammer, Transferkammer, 3 Prozesskammern
- Vorbehandlung durch Sputter-Ätzen, Bedampfung, Sputtern
- 150 mm x 100 mm , ≤ Ø 30 mm x 200 mm
ANWENDUNG
- Sputtern und Bedampfen von Zer-Gadolinium-Oxid und yttriumstabilisiertem Zirkonium für Brennstoffzellen
- Beschichtung von Metallsubstraten auf Carrier; Substratabmessungen 150 mm x 100 mm, Substrat-face-down-Regime; optional: Beschichtung von Rohren Ø 30 mm x 200 mm nach Umrüstung
- F&E
TechnologIE
Substratvorbehandlung
- HF-Sputter-Ätzen im Substrat-Face-down-Regime
Deposition
- HF-Sputtern von Zer-Gadolinium-Oxid und yttriumstabilisiertem Zirkonium
- Reaktives DC-Sputtern vorbereitet
- Co-Elektronenstrahlbedampfen der oben genannten Materialien
- Substratheizung bis 800 ºC während der Deposition
- Startdruck ≤ 5 · 10-7 mbar
Anlage
Schleusenkammern
- Edelstahlkammer mit Magazin
- Reinraumbox integriert
Transferkammer
- Al-Kammer
- Kohlenwasserstofffreies Hochvakuum-Pumpsystem
- Vakuum-Roboter
- Rechteckschieber zu den Prozesskammern
Vorbehandlungskammer
- Edelstahlkammer, heiz- und kühlbar mit Wasser
- Kohlenwasserstofffreies Hochvakuum-Pumpsystem
- Inverser HF-Sputter-Ätzer ISE200
- Substratträger mit Antrieb für Substratrotation
- Gasversorgungssystem
Sputter-Kammer
- Edelstahlkammer, heiz- und kühlbar mit Wasser
- Kohlenwasserstofffreies Hochvakuum-Pumpsystem
- Magnetron-Sputter-Quelle PPS-A250; mit HF- und Gleichspannungsversorgung
- Schwenkbare Substratblende
- Plasmaemissionsmonitor PEM® 05
- Substratheizer
- Gasversorgungssystem
Elektronenstrahl-Bedampfungskammer
- Edelstahlkammer, heiz- und kühlbar mit Wasser
- Kohlenwasserstofffreies Hochvakuum-Pumpsystem
- 2 Transvers-Elektronenstrahlverdampfer mit austauschbaren Tiegeln
- 2-Kanal-Quarzmonitor
- Heizer für Substrattemperaturen bis 800 °C
- Gasversorgungssystem
