vertikale Inline-Systeme 

VISS300S Sputter-System (1) für TCO

• Single-Carrier Inline-System zur Abscheidung transparenter leitfähige Oxide (TCO)
• bestehend aus Schleusenkammer und Prozesskammer mit 2 Sputter-Stationen
• maximale Substratgröße 300 mm x 300 mm

Anwendung   

• Sputtern von ZnO oder ZnO:Al als TCO für Dünnschicht-Solarzellen mittels ZnAl, ZnO:Al₂O₃ Targets
• Beschichtung von Glassubstraten auf Carrier; Substratabmessungen 300 mm x 300 mm, bis zu 5 mm dick, 7^o-Carrier-Neigung
• F&E, Pilotfertigung 

Technologie  

Deposition 

• HF (13.56 MHz)- und Gleichspannungs-Sputtern; reaktive Prozessführung mit Plasmaemissionsmonitor von metallischen Targets

Anlage  

Schleusenkammer  

• Edelstahlkammer nachrüstbar mit Kammerventil
• Inverser Sputterätzer ISE500
• Kohlenwasserstofffreies Hochvakuum-Pumpsystem

Sputter-Kammer 

• Edelstahlkammer mit 2 Prozess-Stationen, Heizer und Overrun-Sektion 
• 2 Rechteck-Standard-Einzel-Magnetron-Sputter-Quellen, SSM750HF/ SSM750DC 
• Kohlenwasserstofffreies Hochvakuum-Pumpsystem
• Plasmaemissionsmonitor VAprocos^® und Lambdasonde
• Substratheizer
• Gasversorgungssystem