Vertikale Inline-Systeme

VISS600S Sputter-System für Metalle & Metalloxide

• Inline-System für optische Schichten
• Eingabe- und Ausgabeschleusenkammern, 2 Prozesskammern
• Vorbehandlung durch Sputter-Ätzen, Sputtern
• 600 mm x 600 mm

Anwendung  

• Sputtern von Metallen und Metalloxiden für optische Einfach- und Mehrfachschichten mit exzellenter Schichthomogenität
• Hochproduktive Beschichtung von Keramik- oder Glassubstraten auf Carrier; Substratabmessung 600 mm x 600 mm, Substratabmessung ≤  10 mm, 7^o-Carrier-Neigung
• Fertigung, reinraumkompatibel

Technologie  

Substrat-Vorbehandlung  

• HF-Sputter-Ätzen, Einzel- oder Mehrschritt-Regime 

Deposition

• DC-Magnetron-Sputtern, unipolares Regime
• HF-Magnetron-Sputtern, unipolares Regime  
• Einzel- oder Mehrschritt-Bearbeitungsregime  
• Startdruck ≤ 5⋅10^-7 mbar

Anlage   

Ein- und Ausgabekammern mit Be- und Entladestation  

• Edelstahlkammer 
• Kohlenwasserstofffreies Hochvakuum-Pumpsystem 

Vorbehandlungskammer  

• Inverser HF-Sputter-Ätzer 

Sputter-Kammer

• Edelstahlkammer  
• Kohlenwasserstofffreies Hochvakuum-Pumpsystem
• Rechteck-Standard-Einzel-DC- und HF-Magnetron-Sputter-Quelle, leicht zugänglich zur Wartung  
• Erweiterbar auf bis zu 5 Bearbeitungsstationen   
• Gasversorgungssystem