Dünnschicht - photovoltaik

Wir sehen die Dünnschicht-Photovoltaik als einen der Wachstumsmärkte der Zukunft und verfügen über ein breites Portfolio an
Lösungen zur Beschichtung von Dünnschichtmodulen. Dabei setzt VON ARDENNE mit der PIA|nova^® auf horizontale Beschichtung von Glassubstraten. Unsere Anlagen unterstützen auch vertikale Anordnungen, z. B. mit der GC60V und beschichten flexible Substrate im Rolle-zu-Rolle-Verfahren.

Gern stehen wir für weitere Auskünfte zur Verfügung. Kontaktieren Sie uns!

Übersicht

Dünnschicht-PV

Wafer-PV

Schlüsselkomponenten

Schichtsysteme

ZUR UMSETZUNG STEHEN FOLGENDE MASCHINENPLATTFORMEN ZUR VERFÜGUNG

Die PIA|nova^® ist ein modulares, hoch automatisiertes Produktionssystem zur Abscheidung metallischer Kontaktschichten, transparent leitfähiger Oxide (TCO) und verschiedener Absorberschichten, z. B. für die CIGS- oder CdTe-Technologie. Das modulare Konzept erlaubt die Verbindungen hoher Standardisierung (Zuverlässigkeit, Kosteneffizienz) mit der Flexibilität, Anlagen entsprechend den Erfordernissen des Kunden zu konfigurieren.

Beispiele für die Anwendungsbreite der PIA|nova^®:

Dünnschicht-Solarzellen: a-Si:H, a-Si:H/µc-Si:H
Frontkontakt: SiOxNy, ZnO:Al
Rückkontakt: ZnO:Al, Ag, Al

Dünnschicht-Solarzellen: CdTe
Frontkontakt: ITO, SnO₂
Rückkontakt: Al, Cr, Mo, Sb₂Te₃, NiV

Dünnschicht-Solarzellen: CIGS
Frontkontakt: i-ZnO, ZnO:Al
Absorber: CuGa, In
Rückkontakt: SiO_xN_y, Mo

Die Produktionsanlage GC60V ermöglicht die Abscheidung verschiedener Schichtsysteme in vertikaler Substratanordnung.

Die GC330H ermöglicht die Abscheidung verschiedener Schichtsysteme in horizontaler Substratanordnung und ist eine Anlage für die Sputter-Beschichtung von Flachglassubstraten mit Dünnschicht-Mehrschichtsystemen.

Technologie

Die Sputter-Kammer besteht aus einer dem Kundenwunsch entsprechenden Anzahl von universellen Kompartments der modernen 780-mm-Rasterbauart. Alle Kompartments sind identisch, um eine maximale Flexibilität zu gewährleisten. Sie sind für den Einbau von Deckeln mit Turbomolekularpumpen oder Deckeln mit Sputter-Quellen unterschiedlicher Bauart ausgelegt - von Planarmagnetrons bis hin zu Magnetrons mit rotierenden Targets für DC- oder AC-Sputtern. Zusätzliche Geräte und moderne Prozess-Steuerungssysteme können problemlos integriert werden.

Anlage

Vakuumprozess-System basierend auf Turbomolekular- und trockenen Vorvakuumpumpen.
Der Kunde kann die Bestückung der Anlage mit Geräten beliebig neu konfigurieren, z. B. durch veränderte Anordnung der Pumpendeckel, Magnetrondeckel, Magnetronumgebung und anderer Geräte zwischen den einzelnen Kompartments.
Es sind Instandhaltungsventile für eine selektive Entlüftung verschiedener Sputter-Zonen erhältlich.